【TechWeb】英伟达正式宣布，台积电已全面采用其CUDA-X技术，这一技术的引入使得光刻成本最高下降了50%。
此次合作旨在解决随着制程工艺向2nm、1nm迈进而激增的计算难题，以及破解传统架构在先进制程发展中的瓶颈。
随着芯片制程的演进，光刻、晶体管模拟、工艺控制及晶圆检测等环节对海量仿真计算与实时优化的需求日益增长。台积电基于英伟达GPU，利用CUDA-X这一全栈加速计算库，重点加速四大制造领域：
光刻：采用英伟达cuLTheta加速库，台积电在光刻环节的成本效益提升了20%-50%。
晶体管与工艺模拟：借助cuEST电子结构模拟库，半导体材料设计的化学仿真速度平均提升了50倍。
数据分析与调度：利用cuML机器学习库，台积电能够将数十万道工艺参数精准提炼，显著降低工艺偏差；同时基于H200 GPU的CUDA加速调度，大幅优化了复杂生产路径的资源分配。
缺陷检测：引入Metropolis平台与TAO工具套件，利用视觉AI提升纳米级缺陷识别精度，并减少了重复标注工作。更具前瞻性的是，台积电正在探索基于英伟达Omniverse构建虚拟晶圆厂。通过数字孪生技术，台积电能够在实体生产线投入前提前验证布局与工艺流程，识别潜在瓶颈，从而大幅提升规划效率。
对于此次合作，英伟达创始人兼CEO黄仁勋表示：“英伟达与台积电携手近三十年，台积电正将我们的AI与加速计算引入晶圆厂内部，通过解决全球最复杂的设计与制造难题，提升下一代芯片的速度、效率与良率。”
台积电董事长兼CEO魏哲家则强调：“通过在运营优化、光刻及检测等关键环节应用英伟达技术，台积电正致力于提升制造卓越性，以支持客户未来的成功。”
