12月19日消息，据国外媒体报道，晶圆代工企业中芯国际（SMIC）正在努力获得关键的极紫外（EUV）光刻设备，以开发7nM以下制程技术。
业内观察人士表示，在新任副董事长蒋尚义的帮助下，中芯国际正寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦（ASML）就EUV光刻设备进行谈判。
据报道，中芯国际计划使用EUV光刻机，生产基于7nM以下制程技术的芯片产品。最近，有媒体报道，该公司已经从20nM工艺过渡到3nM工艺，唯一缺的就是EUV光刻机。有了EUV光刻机，该公司就可以量产3nM芯片。
阿斯麦的总部位于荷兰的费尔德霍芬，生产基地和研发设施则位于康涅狄格州、加州、中国台湾和荷兰，科技发展中心及训练设施位于日本、韩国、荷兰、中国台湾和美国。
该公司服务的客户为全球主要的半导体制造商，打造在电力电子、通信和信息技术产品中广泛应用的芯片。
目前，只有阿斯麦能造极紫外光刻机。据悉，三星电子、英特尔和台积电等都采购了该公司的极紫外光刻设备。今年4月份，调查公司OMdia表示，阿斯麦去年交付了26台极紫外光刻机，其中约一半面向大客户台积电。
然而，报道称，中芯国际一直难以从阿斯麦那获得极紫外光刻设备，尽管阿斯麦在法律上不受某些约束条件的影响，但仍有顾虑。
中芯国际及其控股子公司是集成电路晶圆代工企业之一，提供0.35微米到14纳米不同技术节点的晶圆代工与技术服务。
昨日晚间，美国商务部发布公告称，商务部工业和安全局（BIS）将中芯国际列入实体名单，以限制其获取美国关键技术的能力。
美国商务部称，中芯国际被列入实体名单后，美国出口商必须申请许可证才能向该公司销售产品。
