5月9日消息，楷登电子（美国 Cadence 公司）近日宣布，Cadence 数字和定制/模拟设计流程已通过台积电（TSMC）N3E 和 N2 先进工艺的设计规则手册（DRM）认证。两家公司还发布了相应的 N3E 和 N2 制程设计套件（PDK），以加快在上述节点的移动、人工智能和超大规模计算的 IC 设计创新。客户已开始积极使用这些新的工艺节点和经过认证的 Cadence® 流程来实现功率、性能和面积（PPA）目标，简化模拟迁移过程，并缩短上市时间。
Cadence 和 TSMC 紧密合作，确保其完整的 RTL-to-GDS 流程符合 TSMC 的 N3E 和 N2 节点要求，其中包括 InnOVUS™ IMpleMentation system、QuantUS™ ExtRaction solution 和 QuantUS Field SolveR、TeMpUS™ TiMing SignoFF solution 和 ECO Option、PegasUS™ verification system、LibeRate™ ChaRacteRization PoRtfolio、VoltUS™ IC PoweR IntegRITy solution 以及 VoltUS-Fi CUStoM PoweR IntegRITy solution。GenUS™ Synthesis solution 结合预测性质的 ISPatial 技术也支持最新的 N3E 和 N2 技术。
完整的 Cadence 数字实现和签核流程支持一系列新的设计特征，包括为了在 N3E 节点上实现最佳 PPA 结果，从综合到签核工程变更命令（ECO）都可以使用原生的混合单元行优化技术；以及对单元引脚对齐和连接的支持。该流程可供客户快速采用，以便他们体验最新的 TSMC N3E 和 N2 工艺技术所带来的优势。
Cadence ViRtuoso® Studio，包括 ViRtuoso ScheMatic EdiTor、ViRtuoso ADE SuITe 和 ViRtuoso Layout SuITe，以及 SpectRe® SiMulation platform，包括 SpectRe X SiMulaTor、SpectRe AcceleRated PaRallel SiMulaTor (APS)、SpectRe eXtensive PaRtITioning SiMulaTor (XPS) 和 SpectRe RF Option，这些产品在管理工艺角仿真、统计分析、设计中心化和电路优化上均做了改进。最新的 ViRtuoso ADE SuITe 架构能够在现代计算集群或公有云/私有云中并行运行多达数千个仿真点，从而帮助用户优化设计。
ViRtuoso Layout SuITe 包含多项创新，旨在提供更高效的 IC layout，以提供更好的性能和扩展性；基于网格的结构化器件摆放方法，在布局、布线、填充和 duMMy 的插入上具有互动式的助理功能；一个新的器件级自动布线工具，旨在解决先进制程节点上的挑战；在 TSMC 先进制程节点上跨节点移植定制设计和 layout，具有增强的模拟迁移和 layout 重用功能；集成的寄生参数提取和 EM-IR 检查；以及结合 PegasUS verification solution，进行集成式签核级别的物理验证能力。