国内又一家企业光刻胶产品取得新进展，上海新阳6月30日盘后发布公告称，公司自主研发的KRF（248nM）厚膜光刻胶已通过客户验证，并取得首笔订单。公司相关负责人表示，这个产品的开发和产业化是公司第三大核心技术光刻技术的重要方向之一，首笔订单已经取得，后续该产品将进入产业化阶段。
随着全球缺芯潮继续蔓延，晶圆代工厂的扩产势能已传导至产业链上游。而光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料，仍面临较大缺口。
当下国产光刻胶与国外差距较大，用于生产6英寸硅片的g/i线光刻胶自给率为20%，生产8英寸硅片的KRF光刻胶自给率不足5%，制程更高的ARF和EUV胶则尚无量产，中高端光刻胶的市场份额几乎被海外龙头垄断。
早前受福岛地震影响，全球光刻胶龙头之一的日本信越化学产能受限，并限制对华出口KRF光刻胶，进一步加剧了国内光刻胶供应紧张局面。目前KRF光刻胶在国内仅有彤程新材的子公司北京科华实现量产，产能为10吨/年左右。
限供和缺货也加速了光刻胶在本土下游晶圆厂的验证。除此次发布公告的上海新阳外，南大光电自主研发的ARF光刻胶于近日通过第二家客户验证，并获小批量订单；晶瑞股份的KRF光刻胶亦进入客户验证尾期。据业内人士介绍，通常情况下，光刻胶研发投产后，需经12～18个月的客户验证周期。
在国产化良机推动下，上述公司也在加码半导体光刻胶的相关研发和产能建设。上海新阳和晶瑞股份都在今年上半年购入ASML光刻机，用于湿法ARF光刻胶的研发；彤程新材则在5月发布公告称，子公司彤程电子投资5.7亿元在上海建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目。