盛美半导体设备（上海）股份有限公司(以下简称“盛美上海”)近日推出了自主知识产权的UltRa PMaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展了一个全新产品分类。盛美上海预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。
盛美上海首席执行官王坚表示：“UltRa PMaxTM PECVD设备的推出，标志着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。这款PECVD设备将更好地服务于全球客户，预计将使我们全球可服务市场规模翻倍增加。”
UltRa PMaxTM PECVD设备配置了自主知识产权的腔体、气体分配装置和卡盘设计，能够提供更好的薄膜均匀性，更小的薄膜应力和更少的颗粒特性。该设备采用单腔体模块化设计，有两种配置：一种是可以配置一至三腔体模块，适合极薄膜层或快速工艺步骤；另一种是可以配置四至五腔体模块，在优化产能的同时，支持厚膜沉积以及更长的工艺时间。以上两种配置中，每个腔体都安装有多个加热卡盘，以优化工艺控制并提高产能。